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点击刷新广州微纳光刻材料科技有限公司创立于 2020 年，技术团队以原英特尔出身的博士为核心，专注于开发 90nm-28nm 制程 IC 光刻胶的高科技公司，总部设立于广州南沙区，并在珠海、上海设有研发中心和实验室。本公司的 ArF 光刻胶技术来源于 2016 年在横琴注册的珠海雅天公司；珠海雅天自主研发开发 ArF 光刻胶树脂，自主配方后，在上海、北京等地的客户产线上（ASML 1150、1450 等光刻机）进行了大量的评估验证，优化迭代后的 ArF 光刻胶的关键技术指标，部分优于日本光刻胶，在国内处于领先地位。 公司将致力于实现ArF光刻胶的国产替代，填补国内高端光刻胶材料产品的空白。未来公司产品技术将为半导体客户进行量身定制，以提高良率和拓宽工艺窗口为目的，为客户提供高性能的光刻胶。
广州微纳光刻材料科技有限公司
民营
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